筒子们，我记得上一次炒作光刻机板块，还是传出国产光刻厂消息的时候，所以老凌只会把这次表现归结为板块轮动，因为在光刻机上，我们的技术显然还不够格，目前来看，国产芯片想要走出自己的路还得花多点时间和精力才行呀。

因为要造芯片，首先要造光刻机。造光刻机有多难？荷兰专家直言，即使将图纸公之于众，也没有其它国家能够造出来！中国有位教授曾经说过，如果把造原子弹的难度系数看作是1，那么载人航天是10，航空发动机是50，造一枚芯片是100。

就拿光刻机巨头阿斯麦来说吧，2月9日阿斯麦在荷兰总部首次展出一台新型“High NA EUV”光刻机。该公司称，这款设备耗资3.5亿美元，主要面向英特尔等高端半导体制造商，其中估计是不包括中国客户的。纯靠自己鼓捣，这要花费的时间精力可不少！

兄嘚们，国产替代走到现在还算是有点收获，但是在光刻机这一块，还是稍显不足，中国跟美国 AI 的差距，其实就是一个EUV光刻机。这个差距说大不大，一旦突破直接就赶上了。但是突破不了EUV光刻机，那就有可能永远都赶不上了。

而我们要的AI芯片基本上都是高端芯片，这类芯片现在我们有设计的能力，但却没有制造的能力，进口的话也很困难，一早就被限制住了，就连英伟达都只能出口“特供版”，在性能上肯定是被阉割一部分了。

这也是为什么国外AI能掀起这么大的风潮，而国内只能在A股炒炒，不过随着国内企业的追赶，现在一切都有希望，最近就连ASML总裁都透露，中国光刻机技术的崛起对全球芯片产业构成威胁。至于是哪里的光刻机技术，雪球就不知道了，只能等后面公布消息了。